阳极场辅磁控溅射镀膜装置

	阳极场辅磁控溅射镀膜装置
	张斌1 ; 张俊彦1 ; 高凯雄1 ; 强力1 ; 王健 2
	2016-04-13
专利国别	中国
专利号	201520836093.1
专利类型	实用新型
权利人	中国科学院兰州化学物理研究所
中文摘要	本实用新型属于物理气相沉积领域，公开了一种阳极场辅磁控溅射镀膜装置，该装置包括真空腔体、工件盘和至少两个由电源Ⅰ供电的磁控溅射靶，在相邻的磁控溅射靶之间设有由电源Ⅱ供电的水冷阳极，在真空腔体内形成闭环结构。本实用新型将等高的水冷阳极和磁控溅射靶复合，增强了离化率的同时提高了腔体等离子体均匀性。
学科主题	材料科学与物理化学
公开日期	2016-04-13
申请日期	2015-10-27
语种	中文
专利申请号	CN205152320U
专利代理	方晓佳
内容类型	专利
源URL	[http://210.77.64.217/handle/362003/21666]
专题	兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
作者单位	1.中国科学院兰州化学物理研究所 2.兰州理工大学石油化工学院
推荐引用方式 GB/T 7714	张斌,张俊彦,高凯雄,等. 阳极场辅磁控溅射镀膜装置. 201520836093.1. 2016-04-13.