箍缩磁场辅助磁控溅射镀膜装置 | |
张斌1![]() ![]() ![]() ![]() | |
2016-04-13 | |
专利国别 | 中国 |
专利号 | 201520840237.0 |
专利类型 | 实用新型 |
权利人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
中文摘要 | 本实用新型公开了一种箍缩磁场辅助磁控溅射镀膜装置,属于表面处理和真空技术领域。该装置包括由偏压电源供电的工件盘以及由电源Ⅱ供电的磁控溅射靶,该磁控溅射靶的前方设有由电源Ⅲ供电的线圈。本实用新型产生的高功率脉冲磁场进一步提高磁控溅射的离化率和电子温度,增大带电离子的数量。 |
学科主题 | 材料科学与物理化学 |
公开日期 | 2016-04-13 |
申请日期 | 2015-10-27 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | CN205152322U |
专利代理 | 方晓佳 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/21664] ![]() |
专题 | 兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
作者单位 | 1.中国科学院兰州化学物理研究所 2.兰州理工大学石油化工学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张斌,张俊彦,强力,等. 箍缩磁场辅助磁控溅射镀膜装置. 201520840237.0. 2016-04-13. |
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