采用放大的自发辐射光源测试光学薄膜的损伤阈值

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	采用放大的自发辐射光源测试光学薄膜的损伤阈值
	周琼 ; 张志祥 ; 孙明营 ; 姚玉东 ; 彭宇杰 ; 刘德安 ; 朱健强
刊名	光学学报
	2014
卷号	34 期号:8 页码:814003
关键词	激光光学放大的自发辐射部分相干性损伤阈值测试均匀的光强分布
其他题名	Using Amplified Spontaneous Emission Source to Test Damage Threshold of Optical Thin-Film
中文摘要	提出了一种精确评估光学薄膜损伤阈值的方法。放大的自发辐射(ASE)光源由于时间相干性和空间相干性较差,所以在近场区域光场强度分布均匀,聚焦后远场也没有被非均匀调制。采用ASE光束作为光学元件损伤阈值测试的辐照光源,可以提高辐照光源的均匀度,实现对光学薄膜损伤阈值的精确评估。ASE光源由神光II高功率激光装置的一级钕玻璃棒状放大器输出,脉宽经过光电开关调制后为9 ns,能量输出在几毫焦耳到几十焦耳范围内可调节,光谱半峰全宽(FWHM)为1nm。根据标准ISO-11254,实验获得ASE测试TiO_2高反膜的损伤阈值为15.1J/cm~2,高于激光测试样品的损伤阈值7.4J/cm~2(脉宽为9 ns时),更准确地评估了样品的损伤阈值。
英文摘要	A method to accurately evaluate optical thin-film damage threshold is presented.The poor coherences in time and space of amplified spontaneous emission (ASE) result in a very smooth beam profile in the near-field region and uniform intensity distribution of the focused beamlet in the far-field region.In order to increase the uniformity of the irradiation source and test the damage threshold with a greater precision,ASE beam is used to test the damage threshold.ASE is generated by a rod amplifier of the Ndglass in SG-II high power laser system.The pulse duration is 9 ns after an electro-optical switch with the output energy changing from a few millijoules to tens of joules.The spectral full width at half maximum (FWHM) is 1 nm.According to ISO-11254,the damage threshold of the TiO_2 high reflection film using ASE is 15.1 J/cm~2,which is higher than that of 7.4 J/cm~2 tested by laser with pulse duration of 9 ns.So a more accurate evaluation of the samples damage thresholds can be obtained using ASE as the irradiation source.
收录类别	CSCD
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:5221415
内容类型	期刊论文
版本	出版稿
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/12900]
专题	上海光学精密机械研究所_高功率激光物理国家实验室
作者单位	1.周琼, 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室, 上海 201800, 中国. 2.张志祥, 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室, 上海 201800, 中国. 3.孙明营, 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室, 上海 201800, 中国. 4.姚玉东, 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室, 上海 201800, 中国. 5.彭宇杰, 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室, 上海 201800, 中国. 6.刘
推荐引用方式 GB/T 7714	周琼,张志祥,孙明营,等. 采用放大的自发辐射光源测试光学薄膜的损伤阈值[J]. 光学学报,2014,34(8):814003.
APA	周琼.,张志祥.,孙明营.,姚玉东.,彭宇杰.,...&朱健强.(2014).采用放大的自发辐射光源测试光学薄膜的损伤阈值.光学学报,34(8),814003.
MLA	周琼,et al."采用放大的自发辐射光源测试光学薄膜的损伤阈值".光学学报 34.8(2014):814003.