基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计

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	基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计
	佟军民 ; 胡松
刊名	制造技术与机床
	2015
期号	8 页码:47-50
关键词	掩模移动曝光技术接近式光刻机对准系统对准精度
通讯作者	佟军民
中文摘要	提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置。该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/7356]
专题	光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室）
作者单位	1.许昌职业技术学院 2.中国科学院光电技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	佟军民,胡松. 基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计[J]. 制造技术与机床,2015(8):47-50.
APA	佟军民,&胡松.(2015).基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计.制造技术与机床(8),47-50.
MLA	佟军民,et al."基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计".制造技术与机床 .8(2015):47-50.