InGaN量子点的诱导生长和发光特性研究
黎大兵; 韩培德
刊名发光学报
2003
卷号24期号:4页码:380-384
中文摘要降低InGaN的维数是提高GaN基发光器件发光效率的一种非常有效的方法,本文的工作主要集中在高密度InGaN量子点的生长和分析上。在MOCVD设备上,经过钝化和低温两个特殊工艺条件,在高温GaN表面生长了一层低温岛状GaN,形成表面形貌的起伏,进而导致表面应力的不均匀分布。在这一层低温岛状GaN的诱导性作用下生长并形成InGaN量子点。通过原子力显微镜、透射电子显微镜和光致发光谱对其微观形貌和光学性质进行了观察和研究。从原子力显微镜以及透射电子显微镜观察得到的结果表明
英文摘要降低InGaN的维数是提高GaN基发光器件发光效率的一种非常有效的方法,本文的工作主要集中在高密度InGaN量子点的生长和分析上。在MOCVD设备上,经过钝化和低温两个特殊工艺条件,在高温GaN表面生长了一层低温岛状GaN,形成表面形貌的起伏,进而导致表面应力的不均匀分布。在这一层低温岛状GaN的诱导性作用下生长并形成InGaN量子点。通过原子力显微镜、透射电子显微镜和光致发光谱对其微观形貌和光学性质进行了观察和研究。从原子力显微镜以及透射电子显微镜观察得到的结果表明; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:07:37导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:07:37Z (GMT). No. of bitstreams: 1 4982.pdf: 350504 bytes, checksum: e02df819b527a957456711b20eaf6d7b (MD5) Previous issue date: 2003; 国家自然科学基金(6 86 1),国家重点基础研究专项经费(G2 683)资助项目; 中国科学院半导体研究所;中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息国家自然科学基金(6 86 1),国家重点基础研究专项经费(G2 683)资助项目
语种中文
公开日期2010-11-23 ; 2011-04-29
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17871]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
黎大兵,韩培德. InGaN量子点的诱导生长和发光特性研究[J]. 发光学报,2003,24(4):380-384.
APA 黎大兵,&韩培德.(2003).InGaN量子点的诱导生长和发光特性研究.发光学报,24(4),380-384.
MLA 黎大兵,et al."InGaN量子点的诱导生长和发光特性研究".发光学报 24.4(2003):380-384.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace