实用化1730nm波段掩埋结构半导体激光器的研制
王俊; 王俊
刊名半导体学报
2006
卷号27期号:8页码:1467-1470
中文摘要报道了应用于医疗器械的InP基1730nm波段半导体激光器.外延片采用低压金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)生长,有源区为5个周期的InGaAs量子阱层和InGaAsP垒层.器件采用pnpn结限制掩埋结构,有源区脊宽2μm、腔长300μm.室温下腔面镀膜后激光器管芯的阈值电流为18±5mA,8mW输出功率时的工作电流为60±5mA.采用TO封装后,100mA工作电流下激光器的输出功率大于5mW,输出波长为1732±10nm,高温恒流加速老化筛选实验表明,器件具有长期工作的可靠性,满足实用化要求。
学科主题半导体器件
收录类别CSCD
语种中文
公开日期2010-11-23
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16525]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
王俊,王俊. 实用化1730nm波段掩埋结构半导体激光器的研制[J]. 半导体学报,2006,27(8):1467-1470.
APA 王俊,&王俊.(2006).实用化1730nm波段掩埋结构半导体激光器的研制.半导体学报,27(8),1467-1470.
MLA 王俊,et al."实用化1730nm波段掩埋结构半导体激光器的研制".半导体学报 27.8(2006):1467-1470.
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