全反射X射线荧光分析法

	全反射X射线荧光分析法
	刘亚文
刊名	光谱学与光谱分析
	1987
期号	4 页码:69-73
关键词	射线荧光分析分析样品非弹性散射本底计数反射体激发源散射过程反射技术制样样品量
通讯作者	刘亚文
中文摘要	一、引言在X射线荧光分析中,激发源发出的初级射线与分析样品相互作用,发生光电效应,而使样品发射出某些特征X射线。除此之外,在样品的内部以及样品的承托物上还会产生弹性散射与非弹性散射。在这些散射过程中将产生大量的散射光子。散射光子的出现,一方面限制了探测器的计数率,从而影响特征X射线谱的收集。另一方面将加大待测X射线谱的本底计数,影响特征谱强度的定量检测。统计学的分析表明,在决定检测限的诸
公开日期	2016-02-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/220987]
专题	高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式 GB/T 7714	刘亚文. 全反射X射线荧光分析法[J]. 光谱学与光谱分析,1987(4):69-73.
APA	刘亚文.(1987).全反射X射线荧光分析法.光谱学与光谱分析(4),69-73.
MLA	刘亚文."全反射X射线荧光分析法".光谱学与光谱分析 .4(1987):69-73.